这篇工作不仅加深了衬底和外延材料关系的理解,电力的成的融还为控制2DTMDCs的生长提供了有效的方法。物联网用(d)随温度变化的X,X-,I峰位置。通常,最低最好生长衬底的功能和它的晶体结构和性质息息相关。
【成果简介】近日,电力的成的融南方科技大学程春课题组报导了m面单晶石英能够作为一种多功能的衬底,电力的成的融有效控制单层二硫化钨(WS2)的生长方向并调控其能带结构和形貌维度。而低对称性的衬底如SrTiO3或SiC等表面具有各向异性的扩散势垒,物联网用能够影响外延材料的形貌。
最低最好(c)生长的WS2随温度变化的PL谱图。
电力的成的融(e)WS2长径比随时间变化关系。原文链接:物联网用https://doi.org/10.1088/2631-7990/ab263e.DaiXZ,DengYH,VanBrackleCH,HuangJS.Meniscusfabricationofhalideperovskitethinfilmsathighthroughputforlargeareaandlow-costsolarpanels.Int.J.Extrem.Manuf.1,022004(2019).【作者简介】戴学增,物联网用2015年获清华大学硕士学位,目前为北卡罗来纳大学教堂山分校黄劲松教授课题组博士研究生。
对于大规模生产,最低最好高速涂布过程使得成膜主要在Landau–Levich区,因此对于形成的液态薄膜要采取有效的方法使其干燥结晶。电力的成的融典型特点是所制备的钙钛矿薄膜显现出与基底平行的(hk0)特定取向。
另外一个是涂布速度较高的Landau–Levich区域,物联网用成膜厚度随着速度的增加而变厚,物联网用在此区域由于涂布速度较快,溶液首先形成液态薄膜,随后再挥发溶剂。涂布区间图2在弯月面涂布中,最低最好根据成膜厚度以及涂布速度之间的规律,最低最好可分为两个区域:涂布速度低的区域被称为挥发区,成膜厚度在此区域内随着速度的增加而变薄,大部分溶剂在弯月面区域挥发形成固态薄膜。